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基于双异质结的Ga2O3/GaN/SiC光电探测二极管及其制备方法
基于双异质结的Ga2O3/GaN/SiC光电探测二极管及其制备方法
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2018/09/18
基本信息
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成果类型
高等院校
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委托机构
西安电子科技大学
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成果持有方
西安电子科技大学
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行业领域
通信
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项目名称
基于双异质结的Ga2O3/GaN/SiC光电探测二极管及其制备方法
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知识产权
发明专利
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成果成熟度
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项目简介
本发明涉及一种基于双异质结的Ga2O3/GaN/SiC光电探测二极管及其制备方法。该方法包括:选取SiC衬底;在SiC衬底表面连续生长同质外延层、GaN层及Ga2O3层;在Ga2O3层表面形成光吸收层;在整个衬底下表面淀积第一金属材料形成底电极;在整个衬底上表面淀积第二金属材料形成顶电极以最终形成所述光电探测二极管。本发明采用了双异质结结构,可有效降低漏电流,从而大幅提高光电二极管的器件可靠性。且将Ga2O3材料应用于光吸收层,充分发挥其在紫外光探测方面的性能,其透明导电的电学特性利于提高光吸收层的光吸收能力,进而大幅提高光电探测二极管的器件性能。
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交易信息
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意向交易额
面议
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挂牌时间
2019/09/18
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委托机构
西安电子科技大学
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