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基于随机散射介质的可控亚波长无掩模光刻系统和方法

2292018/09/14
咨询成果 发布成果
基本信息
  • 成果类型 高等院校
  • 委托机构 西安电子科技大学
  • 成果持有方 西安电子科技大学
  • 行业领域 先进制造技术
  • 项目名称 基于随机散射介质的可控亚波长无掩模光刻系统和方法
  • 知识产权 发明专利
  • 成果成熟度
  • 项目简介 本发明提出了一种基于随机散射介质的可控亚波长无掩模光刻系统和方法，解决了光刻技术中成本高、时间效率低及分辨率低的技术问题。本发明利用空间光调制器Ⅰ生成目标图形，光波经空间光调制器Ⅰ后入射到随机散射介质表面，随机散射介质对光进行随机编码，再利用空间光调制器Ⅱ对随机散射介质产生的相位畸变进行补偿，最终实现透过散射介质的亚波长成像，形成任意可控亚波长“数字掩模”，进行投影曝光。本发明避免了掩模版的制作，极大地降低了光刻成本，利用随机散射介质的随机编码与空间光调制器的相位补偿相结合，提高了光刻分辨率，其中相位标定过程仅需一次，提高了光刻时间效率，从而实现了可控亚波长图形的无掩模光刻。
交易信息
  • 意向交易额 面议
  • 挂牌时间 2019/09/14
  • 委托机构 西安电子科技大学
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