西部产学研在线服务平台
| 关注我们
扫描二维码
口袋专利

专利在线查询

描二维码
西部产学研在线

官方公众号

|关于我们
平台简介 帮助中心
|网站导航
| 咨询热线：029-88202821
您当前的位置：科技成果 > 具有双InGaN子量子阱的共振隧穿二极管及其制作方法

具有双InGaN子量子阱的共振隧穿二极管及其制作方法

1262019/08/27
咨询成果 发布成果
基本信息
  • 成果类型 高等院校
  • 委托机构 西安电子科技大学
  • 成果持有方 西安电子科技大学
  • 行业领域 微电子
  • 项目名称 具有双InGaN子量子阱的共振隧穿二极管及其制作方法
  • 知识产权 发明专利
  • 成果成熟度
  • 项目简介 本发明公开了一种具有双InGaN子量子阱的共振隧穿二极管，主要改善现有器件隧穿电流小、I‑V特性可重复性差的问题。其包括主体和辅体两部分，主体部分自下而上为：SiC衬底层、GaN外延层、n+GaN集电极欧姆接触层、第一GaN隔离层、第一InAlN势垒层、第一GaN主量子阱层、第二GaN主量子阱层、第二InAlN势垒层、第二GaN隔离层和n+GaN发射极欧姆接触层；辅体部分有环形电极、圆形电极和钝化层。环形电极在n+GaN集电极欧姆接触层上方，圆形电极在n+GaN发射极欧姆接触层上方，钝化层在环形和圆形电极上方。本发明能有效提高器件功率、降低功耗并改善可重复性，适用于太赫兹频段工作。
交易信息
  • 意向交易额 面议
  • 挂牌时间 2020/08/27
  • 委托机构 西安电子科技大学
  • 分享至：