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基于介质调制的复合源场板异质结场效应晶体管
基于介质调制的复合源场板异质结场效应晶体管
316
2020/06/03
基本信息
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专利类型
高等院校
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委托机构
西安电子科技大学
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专利持有方
西安电子科技大学
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行业领域
电子元器件
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项目名称
基于介质调制的复合源场板异质结场效应晶体管
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知识产权
发明专利
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项目简介
本发明公开了一种基于介质调制的复合源场板异质结场效应晶体管,主要解决现有场板技术在实现高击穿电压时工艺复杂的问题。其包括:衬底(1)、过渡层(2)、势垒层(3)、源极(4)、漏极(5)、台面(6)、钝化层(9)和保护层(13);源极与漏极之间的势垒层内刻有栅槽(7),栅槽(7)内淀积有栅极(8),栅极与漏极之间的钝化层(9)内刻有凹槽(10),凹槽(10)内完全填充有高介电常数介质(11),钝化层(9)与保护层(13)之间淀积有源场板(12),该源场板与源极电气连接,源场板(12)与高介电常数介质(11)构成复合源场板。本发明具有制作工艺简单、击穿电压高、场板效率高、可靠性高和成品率高的优点。
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交易信息
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意向交易额
面议
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挂牌时间
2021/06/03
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委托机构
西安电子科技大学
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