您当前的位置:科技专利 > 一种用于磁控溅射工艺的电弧熄灭方法

一种用于磁控溅射工艺的电弧熄灭方法

1892020/03/03
基本信息
  • 专利类型 高等院校
  • 委托机构 西安理工大学
  • 专利持有方 西安理工大学
  • 行业领域 其他
  • 项目名称 一种用于磁控溅射工艺的电弧熄灭方法
  • 知识产权 发明专利
  • 项目简介 本发明公开了一种用于磁控溅射工艺的电弧熄灭方法,首先采样磁控溅射电源输出电压、电流,根据电压斜率和电流幅值进行电弧侦测,判断电弧是否产生;其次,根据电弧产生的电流幅值大小进行电弧分类,将电弧分为第一电弧类型和第二电弧类型;最后对第一电弧类型和第二电弧类型分别进行灭弧处理。本发明能够快速检测和熄灭磁控溅射工艺中产生的电弧,方法简单、切实可行、易于实现,弥补了以往电弧检测和熄灭方法中存在的误检测和漏检测,工艺区间丢失问题,可以有效保护溅射靶、工艺区间和电源。
交易信息
  • 意向交易额 面议
  • 挂牌时间 2022/03/17
  • 委托机构 西安理工大学
  • 分享至: